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我公司系列二氧化硅拋光是一種高純度顆粒均勻，分散性好，切削力好，鏡面效果好的拋光粉，廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光，

拋光范圍：硅晶圓片、鍺片、化合物半導體材料，光學器件、藍寶石片等的拋光加工。金屬鏡面拋光

拋光特點：具有應(yīng)用領(lǐng)域廣、拋光效率高、雜質(zhì)含量低、拋光后容易清洗等特點。如：硅片、化合物晶體、光學器件、寶石玉器等的拋光加工。

技術(shù)指標：

我公司生產(chǎn)的納米二氧化硅拋光粉具有粒徑小、分散性好，粘度低，拋光亮度高，光澤細膩，可以解決材料表面粗糙度、波紋度和表面缺陷等問題。 可以做光學玻璃拋光，玻璃水鉆拋光，寶石拋光，金屬拋光，石材拋光等精拋。

 用量

推薦用量為8～20％，調(diào)成漿料再進行拋光。

儲藏：常溫密閉儲藏。

包裝：10公斤/袋，20公斤/桶。